hsm1014 发表于 2011-4-17 09:04:43

求教高手！！电池片刻蚀后刻蚀边缘内侧有黑边

单晶硅电池片刻蚀后刻蚀边缘内侧有黑边，扩散面和非扩散面的黑边都很明显！但是经过去磷硅玻璃清洗后，就没了。
问技术部的人，解释如下可能是等离子刻蚀机内部太脏；也可能是四氟化炭的输送管道内壁受腐蚀了，原因不明！！
求教高手，有谁知道的帮忙解决下吧 十万火急！！

doneboy 发表于 2011-4-17 09:04:44

如果是湿法刻蚀的话这种现象会出现在刚换液后，为药液浓度过大导致，可增加传输速度解决！
如果是干法刻蚀的话为石英坩埚太脏导致，刻蚀机停留呆料时间长再次投入使用如果没维护就会出现刻蚀黑边，经解决方法为用酒精布擦拭石英坩埚后再空泡一遍，即可解决。

xiaokui_sh 发表于 2011-4-17 11:12:24

清洗速度过快，硅片清洗不干净，扩散容易出现黑点片:)

阿建 发表于 2011-5-10 01:52:44

1)如果是部分的硅片有的话，可能是硅片在放入刻蚀机之前没有充分的理齐或者是夹具的材料不好导致
2)如果夹具和准备工作都没问题的话，可以试着调整一下功率参数

doneboy 发表于 2011-5-25 12:53:21

如果是湿法刻蚀的话这种现象会出现在刚换液后，为药液浓度过大导致，可增加传输速度解决！
如果是干法刻蚀的话为石英坩埚太脏导致，刻蚀机停留呆料时间长再次投入使用如果没维护就会出现刻蚀黑边，经解决方法为用酒精布擦拭石英坩埚后再空泡一遍，即可解决。

l279145258 发表于 2011-6-27 19:17:34

扩散的P，SIO玻璃

chengxinshijin 发表于 2011-7-9 22:10:49

把刻蚀机腔壁搞干净就可以了

zhaoff2005 发表于 2011-8-26 13:13:13

楼主说的应该是干刻。
1.刻蚀机石英管做好清洁工作。
2.硅片的夹具要夹紧。
3.硅夹具的转速提高些。
4.提高O2的比例。

xyd0209 发表于 2011-9-14 09:42:16

如果是RENA湿法刻蚀，那是因为刻蚀槽有爬液现象，而且槽中的H2SO4浓度过高导致，解决办法：调小刻蚀槽抽风，适当添加点水，降低H2SO4浓度。

如果是干法刻蚀，检查下石英管卫生情况，夹具有否夹紧等。

sxlgm01 发表于 2012-3-8 21:32:27

刻蚀机在每班开始前必须用酒精清洁干净石英管和炉门，还有及时更换四氟化碳送气管道。还有观察辉光颜色，压紧硅片。还有尾气中的HF及时排除。应该可以好点了。如果还不行就应该请设备部门考虑检查真空电子管了。
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